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一、产品详细说明
超纯水是既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.2MΩ*cm极限值（25℃）。
超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.2MΩ*cm（25℃）。
品牌：诺化
型号：专业定制
产水量：0.25吨/小时至100吨/小时
进水水质：市政自来水或者井水
出水水质：符合客户要求的纯水水质
电导率范围：0.055μS/cm~10μS/cm
电阻率范围：1Ω·m~18.2Ω·m（常温下20°C）
二、超纯水设备简介
edi超纯水设备是用于工业生产用水水的纯水制取装置。根据客户的需求采用的不同的工艺流程来制取符合客户生产用纯水的标准
三、EDI超纯水设备的主要特点：
1.产水水质高而具有较佳的稳定度高
2.连续不间断制水，不因再生而停机。
3.模块化生产，并可实现全自动控制。
4.不须酸碱再生，无污水排放。
5.无酸碱再生设备和化学药品储运。
6.设备结构紧凑，占地面积小。
7.运行费用及维修成本低。
8.运行操作简单，劳动强度低
四、EDI超纯水设备基本参数
1、给水：RO纯水，一般水的电导率为4-30us/cm。
2、PH：5.0-8.0(在此PH条件下，水硬度不能太高)
3、温度：5-35℃
4、进水压力：较大为4kg/cm2(60psi)，较小为1.5kg/cm2(25psi)。
四、EDI的进水要求
反渗透RO产水，电导率1-20μs/cm，较大允许电导率≤30μs/cm（NaCl）。
pH值： 7.5—9
温度： 15℃--35℃
进水压力（DIN）：0.15—0.4MPa
浓水进水压力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa
产水压力(DOUT)：0.05—0.25MPa
浓水出水压力(COUT)： 0.02—0.2MPa
进水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 计）(推荐0 5ppm以下）
进水有机物：TOC＜0.5ppm
进水硅：SiO2＜0.5ppm
进水总CO2：＜3ppm
进水颗粒度：＜1μm
适用范围
单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、 液晶显示器、导电玻璃、电池（蓄电池）、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器、洁净产品及各种元器件等生产工艺用高纯水 。
本公司提供DQ(设计确认)、FAT(制造工厂测试)、IQ（安装确认）、OQ（运行确认）、PQ（性能确认）等一系列活动，提供的数据和结论能够证明该设备在生产中可以满足生产工艺要求，设备的性能符合设计要求、产品出厂标准和国家相关行业要求。
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